e-Repository BATAN

Advanced Search

PENGARUH VARIASI DOSIS DAN ENERGI ION FOSFOR TERHADAP RESISTIVITAS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI

Santoso, Agus and Sayono, Sayono (2004) PENGARUH VARIASI DOSIS DAN ENERGI ION FOSFOR TERHADAP RESISTIVITAS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI. In: Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, 1 Oktober 2004, Yogyakarta.

[img]
Preview
Text (PENGARUH VARIASI DOSIS DAN ENERGI ION FOSFOR TERHADAP RESISTIVITAS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI)
PROSIDING_AGUS S_PSTA_2004.pdf - Published Version
Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial Share Alike.

Download (149kB) | Preview

Abstract

PENGARUH VARIASI DOSIS DAN ENERGI ION FOSFOR TERHADAP RESISTIVITAS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI. Telah dilakukan penelitian pengaruh dosis dan energi ion fosfor terhadap resistivitas silikon amorf terhidrogenasi. Implantasi ion fosfor dilakukan dengan energi dari 10 keV sampai dengan 80 keV, sedangkan dosis ion 1 × 1015 s/d 1,2 × 1016 ion/cm2. Pengujian cuplikan ikatan atom fosfor pada silikon amorf terhidrogenasi dilakukan dengan spektrometer inframerah dan XRD. Sedangkan pengukuran resistivitas dilakukan dengan menggunakan metode probe empat titik. Dari hasil analisa dengan spektrum infra merah diperoleh bahwa ikatan Si-H pada a-Si:H diimplantasi dengan ion fosfor terjadi pada angka gelombang SiH, SiH2, dan SiH3 pada angka gelombang 2347,2 dan 2395,4 cm-1 merupakan vibrasi regang. Sedangkan pada angka gelombang 1082 cm-1 merupakan vibrasi regang dari Si-O yang berasal dari Si-O-Si. Ikatan fosfor pada a-SiH ditunjukkan angka gelombang 420 cm-1, 434 cm-1 dan 476 cm-1 merupakan vibrasi regang dengan bentuk ikatan Si-P. Banyaknya dosis dan besar energi ion berpengaruh terhadap penurunan resistivitas a-Si:H. Resistivitas a-Si:H minimum sebesar 1,713 × 10-1 ohm cm diperoleh pada enegi 60 keV, dosis 6.21 × 1015 ion/cm2.

Item Type: Conference or Workshop Item (Paper)
Subjects: Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir
Keselamatan dan Keamanan Nuklir
Divisions: Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User: EDITOR PSTA BATAN
Date Deposited: 30 Oct 2018 01:16
Last Modified: 30 Oct 2018 01:16
URI: http://repo-nkm.batan.go.id/id/eprint/4152

Actions (login required)

View Item View Item