e-Repository BATAN

Advanced Search

KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK

Salam, Aminus and Pudjorahardjo, Djoko Slamet and Santosa, Slamet (2004) KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK. In: Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, 1 Oktober 2004, Yogyakarta.

[img]
Preview
Text (KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK)
PROSIDING_AMINUS SALAM_PSTA_2004.pdf - Published Version
Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial Share Alike.

Download (110kB) | Preview

Abstract

KAJIAN PEMANFAATAN AKSESERATOR ION UNTUK INDUSTRI MIKROELEKTRONIKA. Telah dikaji pemanfaatan akselerator ion untuk industri mikroelektronika. Tujuan dari kajian ini adalah untuk mempersiapkan dokumen tentang pemanfaatan teknologi akselerator ion untuk industri mikroelektronika. Hal tersebut berkaitan dengan rencana pembangunan laboratorium berbasis akselerator di P3TM BATAN Yogyakarta. Akselerator ion sebagai alat untuk mempercepat partikel ion dengan energi tertentu. Partikel ion sebagai proyektil akan menumbuk atom target sehingga material target akan terimplantasi ion. Salah satu aplikasinya adalah untuk mengubah sifat-sifat bahan semikonduktor dengan teknik implantasi ion. Dengan teknik implantasi ion dapat difabrikasi rangkaian terpadu (IC) berbasis MOS (Metal Oxide Semiconductor) atau CMOS ( Complementary MOS ) yang berupa LSI, MSI, VLSI dan ULSI. Jenis ion dopan yang digunakan sebagai proyektil pada bahan semikonduktor ialah B, P, As, In, Sb, sedangkan bahan material target 95% menggunakan silikon (Si). Arus berkas ion yang diperlukan dalam orde μA hingga 10 mA, sedangkan energi ion yang diperlukan pada range 20 keV s/d 3 MeV. Oleh karena itu untuk merealisasi pemanfaatan laboratorium berbasis aksekelator ion untuk fabrikasi komponen mikroelektronika diperlukan akselerator ion dengan jangkauan energi 20 keV s/d 3 MeV.

Item Type: Conference or Workshop Item (Paper)
Subjects: Isotop dan Radiasi > Produksi Isotop dan Sumber Radiasi > Akselerator
Divisions: Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User: EDITOR PSTA BATAN
Date Deposited: 30 Oct 2018 01:22
Last Modified: 30 Oct 2018 01:22
URI: http://repo-nkm.batan.go.id/id/eprint/4154

Actions (login required)

View Item View Item