e-Repository BATAN

Advanced Search

RANCANG BANGUN SISTEM OTOMATISASI PROSES SPUTTERING DENGAN MIKROKONTROLER

Taxwim, Taxwim and Yunanto, yunanto and Sayono, Sayono (2005) RANCANG BANGUN SISTEM OTOMATISASI PROSES SPUTTERING DENGAN MIKROKONTROLER. Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, 7. pp. 49-58. ISSN 1411-1349

[img]
Preview
Text (RANCANG BANGUN SISTEM OTOMATISASI PROSES SPUTTERING DENGAN MIKROKONTROLER)
PROSIDING_TAXWIM_PSTA_2005.pdf - Published Version
Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial Share Alike.

Download (97kB) | Preview

Abstract

RANCANG BANGUN SISTEM OTOMATISASI PROSES SPUTTERING DENGAN MIKROKONTROLER. Salah satu peralatan sputtering di laboratorium Akselerator P3TMBATAN Yogyakarta pengoperasiannya masih dilakukan secara manual. Pengoperasian secara manual tersebut memiliki kelemahan yaitu ketelitian yang rendah dan pengoperasian yang tidak praktis. Oleh karena itu telah dirancang suatu sistem kendali otomatis pada proses sputtering berbasis mikrokontroler Sistem otomatisasi proses sputtering terdiri dari hardware dan software yang meliputi tombol panel timer, modul mikrokontroler, display timer, modul opto-coupler dan modul sensor suhu. Dengan menekan salah satu tombol panel timer maka display timer dan modul opto-coupler akan aktif. Modul opto-coupler akan mengaktifan pompa vakum dan tegangan tinggi DC. Sensor suhu difungsikan untuk menjaga agar elemen-elemen didalam tabung sputtering tidak rusak, yaitu dengan cara menetapkan nilai suhu 70 0C di modul mikrokontroler dari suhu tabung sebesar 80 0C. Pengujian dilakukan dengan mencari selisih waktu penelitian dengan waktu acuan. Hasil sampel proses sputtering berupa Aluminium-Seng dengan melakukan pengujian pada XRF diperoleh kesamaan ketebalan lapisan tipis sebesar 80 netto dengan selisih toleransi sebesar 2 %. Sistem kendali manual yang ada dapat digantikan dengan sistem otomatis berbasis mikrokontroler AT89C51. Ketelitian sistem pada timer 10 menit sebesar 99,9819 %, pada timer 15 menit sebesar 99,9909 %, pada timer 20 menit sebesar 99,9884 %, pada timer 25 menit sebesar 99,9936 % dan pada timer 30 menit sebesar 99,9966 %.

Item Type: Article
Subjects: Isotop dan Radiasi > Produksi Isotop dan Sumber Radiasi > Akselerator
Divisions: Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User: EDITOR PSTA BATAN
Date Deposited: 30 Oct 2018 08:59
Last Modified: 30 Oct 2018 08:59
URI: http://repo-nkm.batan.go.id/id/eprint/4227

Actions (login required)

View Item View Item