Wirjoadi, wirjoadi and Siswanto, Bambang and Yunanto, yunanto (2005) PENGARUH MEDAN MAGNET LUAR PADA LAPISAN TIPIS (Ni80Fe20) HASIL DEPOSISI MENGGUNAKAN TEKNIK DC MAGNETRON SPUTTERING. Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, 7. pp. 262-270. ISSN 1411-1349

Preview

Text PROSIDING_WIRJOADI_PSTA_2005.pdf - Published Version Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial Share Alike. Download (227kB) | Preview

Abstract

PENGARUH MEDAN MAGNET LUAR PADA LAPISAN TIPIS (Ni80Fe20) HASIL DEPOSISI MENGGUNAKAN TEKNIK DC MAGNETRON SPUTTERING. Telah dilakukan deposisi lapisan tipis (Ni80Fe20) pada substrat gelas menggunakan teknik DC magnetron sputtering. Untuk maksud tersebut medan magnet yang dikenakan pada DC Magnetron Sputtering divariasi. 0; 150; 300; 450; dan 600 gauss. Sedang kondisi parameter proses sputtering lainnya dibuat konstan yaitu suhu substrat 250 oC, tekanan 2 × 10-1 Torr, waktu deposisi 30 menit, tegangan elektrode 2 kV dan arus 20 mA. Untuk mengamati gejala magnetoresistansi, lapisan tipis (Ni80Fe20) dikenai medan magnet luar dari 0 hingga 15 gauss dan perubahan resistansinya diukur menggunakan probe empat titik. Dari hasil pengamatan magnetoresistansi diperoleh hasil bahwa magnetoresistansi optimum sebesar 4,34 % dicapai pada medan magnet DC magnetron sputtering sebesar 150 gauss. Dari analisa struktur kristal menggunakan XRD teramati puncak-puncak Fe2O3 (110), NiFe (111), NiO (200) dan Fe3O4 (211).

Item Type:	Article
Subjects:	Isotop dan Radiasi > Produksi Isotop dan Sumber Radiasi > Akselerator Rekayasa Perangkat dan Fasilitas Nuklir
Divisions:	Pusat Sains dan Teknologi Akselerator
Depositing User:	EDITOR PSTA BATAN
Date Deposited:	30 Oct 2018 09:05
Last Modified:	30 Oct 2018 09:05
URI:	http://repo-nkm.batan.go.id/id/eprint/4229

Actions (login required)

View Item